プロセスガス用レギュレータ

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PGMCKD

メタルダイアフラムを採用したプロセスガス用レギュレータです。
ガス圧力・流量の安定化に貢献します。

業種：薬ガス供給設備向け機器、N2パージ関連機器

小流量ガスでも安定した制御が可能。

待機時の圧力上昇を極限まで抑制。

高純度ガス、高精度制御に対応するハイスペック設計。
微少流量、圧力の高精度制御。
小ヒステリシス、圧力降下軽減。

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